NIKON露光机紫外线灯2KW电源

制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺主要的工件就是掩模和基片。以紫外线之力，突破半导体工业的极限。NIKON露光机紫外线灯2KW电源

ORC制作所自1968年创业已来，立足于专门制造「光」，贡献于多个领域。用常年培育的技术力，满足客户需求，取得客户信赖。以光技术应用，先进的紫外线灯为支柱，面向电路板，液晶显示产业，半导体光刻设备，检查设备展开。

紫外线灯种类包含：超高压UV灯，高压UV灯，低压UV灯，金属卤化物灯，短弧灯等晶圆制造工程用UV照射装置・点灯用定电力／定照度电源，光照度计・光量计。

品质：1997年 6月7日 取得 ISO-9001认证(BVJC) 

环境：1998年12月4日 取得 ISO-14001认证(BVJC)  金属卤素灯紫外线灯ONL-13501i线步进式光刻机NSR-SF100,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。

超高圧水銀Lampは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～450nmのDeepUV領域に適化した光源ユニットです。リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。光源:250W 超高圧UVランプ,露光エリア:φ135mm,波長領域:230nm～450nm,初期照度:16mW/cm2以上,照度均一度:±5%以内,本体外形寸法(mm):224(W)×521(D)×417(H),電源外形寸法（mm):180(W)×300(D)×360(H).

紫外线固化灯：

型号：UVL-14KM4-O

种类：金属卤素灯

额定功率：14KW

电流：28A

电压：49.5V

照度：38.5mW/CM²

发光管长度：500mm

电压范围：450～550V；点灯检测结果：495V。电流范围：24～32A；点灯检测结果：38.2A。功率：14，020W；365nm紫外线强度38.5mw/cm2。

被照射物体表面温度随着功率增大而变大，功率14KW是：100℃±3％

主要用处:紫外线固化设备。

特点①UVResin固化,框胶封边材料固化。

②主波长以365nm为中心构成。

③容量;可制作1kw到40kw，lamp隙间长可制作100mm到2700mm

④lampOutDia可到14mm~50mm i线步进式光刻机NSR-2005i8用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率:2KW,型号：NLi-2000A-1。

产品化无NOｘ产生的UV Lamp『智能准分子灯』作为臭氧发生动力（灯+电源）模块.臭氧存在与大气中，起到净化大气作用。大气中的氧气和太阳光中的紫外线反应或者雷的放电现象，自然生成。阳光充裕的海岸或森林，存在程度、制作出清爽的空气。臭氧的氧原子[O]3个结合后产物，化学式是[O3]。臭氧的氧原子比氧气原子多出1个的[O3]状态、余下的氧原子[O]给其它物质，引发返回稳定状态的氧分子现象。利用自然界发生的此性质，积极制作臭氧，进行脱臭，除菌，杀菌。以专业的紫外线灯，为半导体工业提供照明。高压汞灯紫外线灯ONL-13501-1

i线步进式光刻机NSR-SF120,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。NIKON露光机紫外线灯2KW电源

用途:レンズの接着、光学レンズの接着、光ファイバーの接着、電子部品の仮組立・封止など。塗装・コーティングに。乗用車塗装補修、ルアー・釣竿の表面塗装、木工芸品の塗装、店舗やホテルの塗装短時間施工、プリント基板の保護コート、装飾織物の表面コート(帯地の金箔)、FRPの補修、屋外構築物の部分補修など。印刷・マーキングに。電子部品のマーキング、銘版印刷、シール・ラベル印刷、プラスチックフィルム・カードの印刷の部分補修など。NIKON露光机紫外线灯2KW电源